《科創(chuàng)板日報》30日訊，三星正在考慮在其下一代DRAM極紫外（EUV）光刻工藝中應用金屬氧化物抗蝕劑（MOR）。MOR被業(yè)內認為是下一代光刻膠（PR），會接棒目前先進芯片光刻中的化學放大膠（CAR）。三星正考慮在第6代10納米DRAM（1c DRAM）中使用MOR，主要在六層或七層上使用EUV PR，相關產品將于今年下半年投入生產。 (TheElec)